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[常見(jiàn)問(wèn)題]優(yōu)質(zhì)氮化鋁陶瓷覆銅板制作工藝具體方法

優(yōu)質(zhì)氮化鋁陶瓷覆銅板制作工藝具體方法優(yōu)質(zhì)高強(qiáng)度氮化鋁陶瓷覆銅板能解決隨著電力半導(dǎo)體模塊電流容量和功率密度的不斷提高，單位面積功耗大大增加，引起的大功率模塊的散熱關(guān)鍵詞問(wèn)題。氮化鋁陶瓷覆銅板能替代氧化鋁陶瓷覆銅板，是因?yàn)榈X陶瓷覆銅板的導(dǎo)熱能力更高。氧化鋁基陶瓷覆銅板（Al2O3DBC基板）由于具有優(yōu)良的機(jī)械性能和很高的電絕緣強(qiáng)度，且資源豐富、價(jià)格低廉，具有超高的性價(jià)比，在中、小功率電力半導(dǎo)體模塊制作的DBC基板中占有主導(dǎo)地位，但因其熱導(dǎo)率較低，線性膨脹系數(shù)與硅相差較大，所以Al2O3 DBC基板在大功率模塊制作中就顯得非常不足，而AlN陶瓷的絕緣性能和機(jī)械性能都很接近Al2O3陶瓷，且它的熱導(dǎo)率是Al2O3陶瓷的7倍左右，線膨脹系數(shù)與硅匹配性更好，因此氮

2022-05-30 http://www.45rr.cn/Article/youzhidanhualvtaocif.html
[常見(jiàn)問(wèn)題]氮化鋁多層陶瓷及覆銅基板采用什么工藝制作

氮化鋁多層陶瓷及覆銅基板采用什么工藝制作氮化鋁多層陶瓷基板以及氮化鋁覆銅基板已經(jīng)被充分應(yīng)用到LED功率照明、半導(dǎo)體器件、醫(yī)療、汽車電子等產(chǎn)品領(lǐng)域。那么氮化鋁多層陶瓷及覆銅基板是怎么做出來(lái)的，采用什么工藝做的呢？一，氮化鋁多層陶瓷基板多采用HTCC高溫?zé)Y(jié)或者LTCC低溫?zé)Y(jié)工藝制作HTCC氮化鋁多層陶瓷基板具有薄型化、微型化、具體高強(qiáng)度、高氣密性、高電氣性能特征。HTCC高溫?zé)Y(jié)氮化鋁多層陶瓷基板多被應(yīng)用到高導(dǎo)熱、高集成、智能化的產(chǎn)品領(lǐng)域，LED功率模組、大功率微組裝電路、加熱器等。LTCC低溫共燒多層氮化鋁陶瓷基板，多應(yīng)用在光通訊、應(yīng)用于 MEMS、驅(qū)動(dòng)器和傳感器等領(lǐng)域、應(yīng)用于航空、航天及軍事領(lǐng)域、應(yīng)用在汽車電子等領(lǐng)域、醫(yī)療等。二，氮化鋁陶瓷覆銅

2022-03-29 http://www.45rr.cn/Article/danhualvduocengtaoci.html
[常見(jiàn)問(wèn)題]氮化鋁陶瓷直接覆銅基板結(jié)合強(qiáng)度受銅片氧化層厚度而變化

優(yōu)良的導(dǎo)電和導(dǎo)熱性能是氮化鋁陶瓷直接覆銅基板的核心優(yōu)勢(shì)，在大功率、高密度封裝領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。但是氮化鋁陶瓷直接覆銅基板的金屬結(jié)合力是非常重要的關(guān)鍵，這個(gè)直接影響到后面的焊接和元器件插件。那么氮化鋁陶瓷直接覆銅基板在不同的溫度和時(shí)長(zhǎng)情況下因?yàn)殂~片氧化層的變化而變化，以下是具體的幾個(gè)方面：直接覆銅法制備氮化鋁陶瓷覆銅基板的工藝條件下，采用分別在無(wú)氧銅片和AlN基片上進(jìn)行預(yù)氧化的方法,從而形成相應(yīng)的Cu2O和Al2O3氧化層,然后通過(guò)化學(xué)反應(yīng)形成封接良好的界面,制備出AlN陶瓷直接敷銅基板。不同銅片高溫和時(shí)間長(zhǎng)度下，氮化鋁陶瓷覆銅基板結(jié)合力情況如下：在900~1050℃之間,當(dāng)氧氣體積分?jǐn)?shù)為2%~10%時(shí),銅片表面可生成純的Cu2O層。Cu2O層厚度隨溫度和氧含量的增加而逐漸增加,達(dá)到一定厚度后產(chǎn)生剝落。氧化

2021-04-01 http://www.45rr.cn/Article/danhualvtaocizhijief.html

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